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    半導體物理與器件(第四版)(英文版)簡(jiǎn)介,目錄書(shū)摘

    2019-10-31 11:13 來(lái)源:京東 作者:京東
    半導體物理與器件
    半導體物理與器件(第四版)(英文版)
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    每章開(kāi)篇給出中文說(shuō)明,適合雙語(yǔ)教學(xué)。

    內容簡(jiǎn)介:  

    本書(shū)是微電子技術(shù)領(lǐng)域的基礎教程。全書(shū)涵蓋了量子力學(xué)、 固體物理、 半導體材料物理及半導體器件物理等內容, 分成三部分, 共15章。第一部分為半導體材料屬性, 主要討論固體晶格結構、 量子力學(xué)、 固體量子理論、 平衡半導體、 輸運現象、 半導體中的非平衡過(guò)剩載流子; 第二部分為半導體器件基礎, 主要討論pn結、 pn結二極管、 金屬半導體和半導體異質(zhì)結、 金屬氧化物半導體場(chǎng)效應晶體管、 雙極晶體管、 結型場(chǎng)效應晶體管; 第三部分為專(zhuān)用半導體器件, 主要介紹光器件、 半導體微波器件和功率器件等。書(shū)中既講述了半導體基礎知識, 也分析討論了小尺寸器件物理問(wèn)題, 具有一定的深度和廣度。另外, 全書(shū)各章難點(diǎn)之后均列有例題、 自測題, 每章末尾均安排有復習要點(diǎn)、 重要術(shù)語(yǔ)解釋及知識點(diǎn)。全書(shū)各章末尾列有習題和參考文獻, 書(shū)后附有部分習題答案。

    作者簡(jiǎn)介:

    美國新墨西哥大學(xué)電氣與計算機工程系教授,于新墨西哥大學(xué)獲博士學(xué)位后,成為Hanscom空軍基地固態(tài)科學(xué)實(shí)驗室電子工程師。1976年加入新墨西哥大學(xué)電氣與計算機工程系,從事半導體物理與器件課程和電路課程的教學(xué)工作。目前仍為該系的返聘教員。出版過(guò)Microelectronics Circuit Analysis and Design, Fourth Edition和An Introduction to Semiconductor Devices兩本教材。 


    目錄:

    第一部分 半導體材料屬性

    第?1?章 固體晶格結構 1
    1.0 預習 1
    1.1 半導體材料 1
    1.2 固體類(lèi)型 2
    1.3 空間晶格 3
    1.3.1 原胞和晶胞 3
    1.3.2 基本的晶體結構 4
    1.3.3 晶面和密勒指數 6
    1.3.4 晶向 9
    1.4 金剛石結構 10
    1.5 原子價(jià)鍵 12
    *1.6 固體中的缺陷和雜質(zhì) 14
    1.6.1 固體中的缺陷 14
    1.6.2 固體中的雜質(zhì) 16
    *1.7 半導體材料的生長(cháng) 17
    1.7.1 在熔融體中生長(cháng) 17
    1.7.2 外延生長(cháng) 19
    1.8 小結 20
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 20
    知識點(diǎn) 21
    復習題 21
    習題 21
    參考文獻 24
    第?2?章 量子力學(xué)初步 25
    2.0 預習 25
    2.1 量子力學(xué)的基本原理 25
    2.1.1 能量量子化 26
    2.1.2 波粒二相性 27
    2.1.3 不確定原理 30
    2.2 薛定諤波動(dòng)方程 31
    2.2.1 波動(dòng)方程 31
    2.2.2 波函數的物理意義 32
    2.2.3 邊界條件 33
    2.3 薛定諤波動(dòng)方程的應用 34
    2.3.1 自由空間中的電子 35
    2.3.2 無(wú)限深勢阱 36
    2.3.3 階躍勢函數 39
    2.3.4 勢壘和隧道效應 44
    2.4 原子波動(dòng)理論的延伸 46
    2.4.1 單電子原子 46
    2.4.2 周期表 50
    2.5 小結 51
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 51
    知識點(diǎn) 52
    復習題 52
    習題 52
    參考文獻 57
    第?3?章 固體量子理論初步 58
    3.0 預習 58
    3.1 允帶與禁帶 58
    3.1.1 能帶的形成 59
    3.1.2 克龍尼克-潘納模型 63
    3.1.3 k 空間能帶圖 67
    3.2 固體中電的傳導 72
    3.2.1 能帶和鍵模型 72
    3.2.2 漂移電流 74
    3.2.3 電子的有效質(zhì)量 75
    3.2.4 空穴的概念 78
    3.2.5 金屬、絕緣體和半導體 80
    3.3 三維擴展 83
    3.3.1 硅和砷化鎵的 k 空間能帶圖 83
    3.3.2 有效質(zhì)量的補充概念 85
    3.4 狀態(tài)密度函數 85
    3.4.1 數學(xué)推導 85
    3.4.2 擴展到半導體 88
    3.5 統計力學(xué) 91
    3.5.1 統計規律 91
    3.5.2 費米-狄拉克概率函數 91
    3.5.3 分布函數和費米能級 93
    3.6 小結 98
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 98
    知識點(diǎn) 99
    復習題 99
    習題 100
    參考文獻 104
    第 4 章 平衡半導體 106
    4.0 預習 106
    4.1 半導體中的載流子 106
    4.1.1 電子和空穴的平衡分布 107
    4.1.2 n0方程和p0方程 109
    4.1.3 本征載流子濃度 113
    4.1.4 本征費米能級位置 116
    4.2 摻雜原子與能級 118
    4.2.1 定性描述 118
    4.2.2 電離能 120
    4.2.3 III-V族半導體 122
    4.3 非本征半導體 123
    4.3.1 電子和空穴的平衡狀態(tài)分布 123
    4.3.2 n0和p0的乘積 127
    *4.3.3 費米-狄拉克積分 128
    4.3.4 簡(jiǎn)并與非簡(jiǎn)并半導體 130
    4.4 施主和受主的統計學(xué)分布 131
    4.4.1 概率函數 131
    4.4.2 完全電離與束縛態(tài) 132
    4.5 電中性狀態(tài) 135
    4.5.1 補償半導體 135
    4.5.2 平衡電子和空穴濃度 136
    4.6 費米能級的位置 141
    4.6.1 數學(xué)推導 142
    4.6.2 EF隨摻雜濃度和溫度的變化 144
    4.6.3 費米能級的應用 145
    4.7 小結 147
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 148
    知識點(diǎn) 148
    復習題 149
    習題 149
    參考文獻 154
    第 5 章 載流子輸運現象 156
    5.0 預習 156
    5.1 載流子的漂移運動(dòng) 156
    5.1.1 漂移電流密度 156
    5.1.2 遷移率 159
    5.1.3 電導率 164
    5.1.4 飽和速度 169
    5.2 載流子擴散 172
    5.2.1 擴散電流密度 172
    5.2.2 總電流密度 175
    5.3 雜質(zhì)梯度分布 176
    5.3.1 感生電場(chǎng) 176
    5.3.2 愛(ài)因斯坦關(guān)系 178
    *5.4 霍爾效應 180
    5.5 小結 183
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 183
    知識點(diǎn) 184
    復習題 184
    習題 184
    參考文獻 191
    第 6 章 半導體中的非平衡過(guò)剩載流子 192
    6.0 預習 192
    6.1 載流子的產(chǎn)生與復合 193
    6.1.1 平衡態(tài)半導體 193
    6.1.2 過(guò)剩載流子的產(chǎn)生與復合 194
    6.2 過(guò)剩載流子的性質(zhì) 198
    6.2.1 連續性方程 198
    6.2.2 與時(shí)間有關(guān)的擴散方程 199
    6.3 雙極輸運 201
    6.3.1 雙極輸運方程的推導 201
    6.3.2 摻雜及小注入的約束條件 203
    6.3.3 雙極輸運方程的應用 206
    6.3.4 介電弛豫時(shí)間常數 214
    *6.3.5 海恩斯-肖克萊實(shí)驗 216
    6.4 準費米能級 219
    *6.5 過(guò)剩載流子的壽命 221
    6.5.1 肖克萊-里德-霍爾復合理論 221
    6.5.2 非本征摻雜和小注入的約束
    條件 225
    *6.6 表面效應 227
    6.6.1 表面態(tài) 227
    6.6.2 表面復合速度 229
    6.7 小結 231
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 231
    知識點(diǎn) 232
    復習題 233
    習題 233
    參考文獻 240

    第二部分 半導體器件基礎

    第 7 章 pn結 241
    7.0 預習 241
    7.1 pn結的基本結構 241
    7.2 零偏 243
    7.2.1 內建電勢差 243
    7.2.2 電場(chǎng)強度 246
    7.2.3 空間電荷區寬度 249
    7.3 反偏 251
    7.3.1 空間電荷區寬度與電場(chǎng) 251
    7.3.2 勢壘電容(結電容) 254
    7.3.3 單邊突變結 256
    7.4 結擊穿 258
    *7.5 非均勻摻雜pn結 262
    7.5.1 線(xiàn)性緩變結 263
    7.5.2 超突變結 265
    7.6 小結 267
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 268
    知識點(diǎn) 268
    復習題 269
    習題 269
    參考文獻 275
    第 8 章 pn結二極管 276
    8.0 預習 276
    8.1 pn結電流 276
    8.1.1 pn結內電荷流動(dòng)的定性描述 277
    8.1.2 理想的電流-電壓關(guān)系 278
    8.1.3 邊界條件 279
    8.1.4 少數載流子分布 283
    8.1.5 理想pn結電流 286
    8.1.6 物理學(xué)小結 290
    8.1.7 溫度效應 292
    8.1.8 短二極管 293
    8.2 產(chǎn)生-復合電流和高注入級別 295
    8.2.1 產(chǎn)生復合電流 296
    8.2.2 高級注入 302
    8.3 pn 結的小信號模型 304
    8.3.1 擴散電阻 305
    8.3.2 小信號導納 306
    8.3.3 等效電路 313
    *8.4 電荷存儲與二極管瞬態(tài) 314
    8.4.1 關(guān)瞬態(tài) 315
    8.4.2 開(kāi)瞬態(tài) 317
    *8.5 隧道二極管 318
    8.6 小結 321
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 322
    知識點(diǎn) 322
    復習題 323
    習題 323
    參考文獻 330
    第 9 章 金屬半導體和半導體異質(zhì)結 331
    9.0 預習 331
    9.1 肖特基勢壘二極管 331
    9.1.1 性質(zhì)上的特征 332
    9.1.2 理想結的特性 334
    9.1.3 影響肖特基勢壘高度的
    非理想因素 338
    9.1.4 電流-電壓關(guān)系 342
    9.1.5 肖特基勢壘二極管與pn結
    二極管的比較 345
    9.2 金屬-半導體的歐姆接觸 349
    9.2.1 理想非整流接觸勢壘 349
    9.2.2 隧道效應 351
    9.2.3 比接觸電阻 352
    9.3 異質(zhì)結 354
    9.3.1 形成異質(zhì)結的材料 354
    9.3.2 能帶圖 354
    9.3.3 二維電子氣 356
    *9.3.4 靜電平衡態(tài) 358
    *9.3.5 電流-電壓特性 363
    9.4 小結 363
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 364
    知識點(diǎn) 364
    復習題 365
    習題 365
    參考文獻 370
    第 10 章 金屬-氧化物-半導體
    ?場(chǎng)效應晶體管基礎 371
    10.0?預習 371
    10.1?雙端MOS結構 371
    10.1.1 能帶圖 372
    10.1.2 耗盡層厚度 376
    10.1.3 面電荷密度 380
    10.1.4 功函數差 382
    10.1.5 平帶電壓 385
    10.1.6 閾值電壓 388
    10.2?電容-電壓特性 394
    10.2.1 理想C-V特性 394
    10.2.2 頻率特性 399
    10.2.3 固定柵氧化層電荷和
    界面電荷效應 400
    10.3?MOSFET基本工作原理 403
    10.3.1 MOSFET結構 403
    10.3.2 電流-電壓關(guān)系――概念 404
    *10.3.3 電流-電壓關(guān)系
    ――數學(xué)推導 410
    *10.3.4 跨導 418
    10.3.5 襯底偏置效應 419
    10.4?頻率限制特性 422
    10.4.1 小信號等效電路 422
    10.4.2 頻率限制因素和截止頻率 425
    *10.5?CMOS技術(shù) 427
    10.6?小結 430
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 431
    知識點(diǎn) 432
    復習題 432
    習題 433
    參考文獻 441
    第 11 章 金屬-氧化物-半導體
    ?場(chǎng)效應晶體管:概念的深入 443
    11.0?預習 443
    11.1?非理想效應 443
    11.1.1 亞閾值電導 444
    11.1.2 溝道長(cháng)度調制效應 446
    11.1.3 遷移率變化 450
    11.1.4 速度飽和 452
    11.1.5 彈道輸運 453
    11.2?MOSFET按比例縮小理論 455
    11.2.1 恒定電場(chǎng)按比例縮小 455
    11.2.2 閾值電壓――一級近似 456
    11.2.3 全部按比例縮小理論 457
    11.3?閾值電壓的修正 457
    11.3.1 短溝道效應 457
    11.3.2 窄溝道效應 461
    11.4?附加電學(xué)特性 464
    11.4.1 擊穿電壓 464
    *11.4.2 輕摻雜漏晶體管 470
    11.4.3 通過(guò)離子注入進(jìn)行閾值
    調整 472
    *11.5?輻射和熱電子效應 475
    11.5.1 輻射引入的氧化層電荷 475
    11.5.2 輻射引入的界面態(tài) 478
    11.5.3 熱電子充電效應 480
    11.6?小結 481
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 481
    知識點(diǎn) 482
    復習題 482
    習題 483
    參考文獻 489
    第 12 章 雙極晶體管 491
    12.0?預習 491
    12.1?雙極晶體管的工作原理 491
    12.1.1 基本工作原理 493
    12.1.2 晶體管電流的簡(jiǎn)化表達式 495
    12.1.3 工作模式 498
    12.1.4 雙極晶體管放大電路 500
    12.2?少子的分布 501
    12.2.1 正向有源模式 502
    12.2.2 其他工作模式 508
    12.3?低頻共基極電流增益 509
    12.3.1 有用的因素 509
    12.3.2 電流增益的數學(xué)表達式 512
    12.3.3 小結 517
    12.3.4 電流增益的計算 517
    12.4?非理想效應 522
    12.4.1 基區寬度調制效應 522
    12.4.2 大注入效應 524
    12.4.3 發(fā)射區禁帶變窄 526
    12.4.4 電流集邊效應 528
    *12.4.5 基區非均勻摻雜的影響 530
    12.4.6 擊穿電壓 531
    12.5?等效電路模型 536
    *12.5.1 Ebers-Moll模型 537
    12.5.2 Gummel-Poon模型 540
    12.5.3 H-P模型 541
    12.6?頻率上限 545
    12.6.1 延時(shí)因子 545
    12.6.2 晶體管截止頻率 546
    12.7?大信號開(kāi)關(guān) 549
    12.7.1 開(kāi)關(guān)特性 549
    12.7.2 肖特基鉗位晶體管 551
    *12.8?其他的雙極晶體管結構 552
    12.8.1 多晶硅發(fā)射區雙極
    結型晶體管 552
    12.8.2 SiGe基區晶體管 554
    12.8.3 異質(zhì)結雙極晶體管 556
    12.9?小結 558
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 559
    知識點(diǎn) 559
    復習題 560
    習題 560
    參考文獻 569
    第 13 章 結型場(chǎng)效應晶體管 571
    13.0?預習 571
    13.1?JFET概念 571
    13.1.1 pn JFET的基本工作原理 572
    13.1.2 MESFET的基本工作原理 576
    13.2?器件的特性 578
    13.2.1 內建夾斷電壓、夾斷
    電壓和漏源飽和電壓 578
    13.2.2 耗盡型JFET的
    理想直流I-V特性 582
    13.2.3 跨導 587
    13.2.4 MESFET 588
    *13.3?非理想因素 593
    13.3.1 溝道長(cháng)度調制效應 594
    13.3.2 飽和速度影響 596
    13.3.3 亞閾值特性和柵電流效應 596
    *13.4?等效電路和頻率限制 598
    13.4.1 小信號等效電路 598
    13.4.2 頻率限制因子和截止頻率 600
    *13.5?高電子遷移率晶體管 602
    13.5.1 量子阱結構 603
    13.5.2 晶體管性能 604
    13.6?小結 609
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 609
    知識點(diǎn) 610
    復習題 610
    習題 611
    參考文獻 616

    第三部分 專(zhuān)用半導體器件

    第 14 章 光器件 618
    14.0?預習 618
    14.1?光學(xué)吸收 618
    14.1.1 光子吸收系數 619
    14.1.2 電子-空穴對的產(chǎn)生率 622
    14.2?太陽(yáng)能電池 624
    14.2.1 pn結太陽(yáng)能電池 624
    14.2.2 轉換效率與太陽(yáng)光集中 627
    14.2.3  非均勻吸收的影響 628
    14.2.4 異質(zhì)結太陽(yáng)能電池 629
    14.2.5 非晶態(tài)(無(wú)定形)硅
    太陽(yáng)能電池 630
    14.3?光電探測器 633
    14.3.1 光電導體 633
    14.3.2 光電二極管 635
    14.3.3 PIN光電二極管 640
    14.3.4 雪崩二極管 641
    14.3.5 光電晶體管 642
    14.4?光致發(fā)光和電致發(fā)光 643
    14.4.1 基本躍遷 644
    14.4.2 發(fā)光效率 645
    14.4.3 材料 646
    14.5?光電二極管 648
    14.5.1 光的產(chǎn)生 648
    14.5.2 內量子效率 649
    14.5.3 外量子效率 650
    14.5.4 LED器件 652
    14.6?激光二極管 654
    14.6.1 受激輻射和分布反轉 655
    14.6.2 光學(xué)空腔諧振器 654
    14.6.3 閾值電流 658
    14.6.4 器件結構與特性 660
    14.7?小結 661
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 662
    知識點(diǎn) 663
    復習題 663
    習題 664
    參考文獻 668
    第 15 章 半導體功率器件 670
    15.0?預習 670
    15.1?隧道二極管 670
    15.2?耿氏二極管 672
    15.3?雪崩二極管 675
    15.4?功率雙極晶體管 677
    15.4.1 垂直式功率晶體管結構 677
    15.4.2  功率晶體管特性 678
    15.4.3 達林頓組態(tài) 682
    15.5?功率MOSFET 684
    15.5.1 功率晶體管結構 684
    15.5.2 功率MOSFET特性 685
    15.5.3  寄生雙極晶體管 689
    15.6?半導體閘流管 691
    15.6.1 基本特性 691
    15.6.2 SCR的觸發(fā)機理 694
    15.6.3 SCR的關(guān)斷 697
    15.6.4 器件結構 697
    15.7?小結 701
    重要術(shù)語(yǔ)解釋 702
    知識點(diǎn) 703
    復習題 703
    習題 703
    參考文獻 706
    附錄A 部分參數符號列表 707
    附錄B 單位制、單位換算和通用常數 714
    附錄C 元素周期表 717
    附錄D 能量單位――電子伏特 718
    附錄E 薛定諤波動(dòng)方程的推導 720
    附錄F 有效質(zhì)量概念 721
    附件G 誤差函數 726
    附錄H 部分習題參考答案 727
    索引 735

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